reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
© ASML
Przemysł elektroniczny |

ASML i imec otwierają wspólne laboratorium

Imec i ASML łączą siły, otwierając High NA EUV Lithography Lab w holenderskim Veldhoven - laboratorium prowadzone wspólnie przez obie firmy.

Po wieloletnim okresie budowy i integracji, laboratorium jest gotowe do działania. Będzie zatem zapewnieniało wiodącym producentom układów logicznych i pamięci, a także dostawcom zaawansowanych materiałów i sprzętu, dostępu do pierwszego prototypowego skanera High NA EUV (TWINSCAN EXE:5000) oraz otaczających go narzędzi do przetwarzania i metrologii.

Otwarcie wspólnego laboratorium ASML-imec stanowi kamień milowy w przygotowaniu High NA EUV do produkcji na dużą skalę, która – jak się przewiduje – nastąpi to w latach 2025-2026. 

Dając wiodącym producentom układów logicznych i pamięci dostęp do prototypowego skanera High NA EUV i otaczających go narzędzi, imec i ASML wspierają ich w zmniejszaniu ryzyka związanego z technologią i opracowywaniu prywatnych przypadków użycia High NA EUV, zanim skanery będą działać w ich fabrykach produkcyjnych.

„High NA EUV to kolejny kamień milowy w litografii optycznej, obiecujący wzorcowanie metalowych linii/przestrzeni o rozstawie 20 nm w jednej ekspozycji i umożliwiający tworzenie następnych generacji chipów DRAM. Poprawi to wydajność i skróci czas cyklu, a nawet emisję CO2 w porównaniu z istniejącymi schematami EUV 0,33 NA z wieloma wzornikami. Będzie to zatem kluczowy czynnik umożliwiający wprowadzenie Prawa Moore'a w erę ångström. Jesteśmy teraz podekscytowani możliwością zbadania tych możliwości w prawdziwym życiu, przy użyciu prototypowego skanera High NA EUV" – mówi prezes i dyrektor generalny Imec Luc Van den hove w komunikacie prasowym.

Dla firmy imec i jej partnerów, laboratorium litografii High NA EUV będzie działać jako wirtualne rozszerzenie 300 mm cleanroomu firmy w Leuven.

„ASML-imec High NA EUV Lithography Lab zapewnia naszym klientom, partnerom i dostawcom EUV możliwość dostępu do systemu High NA EUV w celu opracowania procesu w oczekiwaniu na dostępność własnego systemu w ich fabrykach. Ten rodzaj bardzo wczesnego zaangażowania w ekosystem jest wyjątkowy i może znacznie przyspieszyć krzywą uczenia się technologii i ułatwić jej wprowadzenie do produkcji” – dodaje prezes i dyrektor generalny ASML, Christophe Fouquet.


reklama
reklama
Załaduj więcej newsów
June 13 2024 13:49 V22.4.55-1