XTPL patentuje w USA rozwiązanie nanodruku
Urząd Patentów i Znaków Towarowych USA przyznał XTPL patent dotyczący metody formowania linii o szerokości rzędu kilkuset nanometrów z wykorzystaniem opracowanego tuszu zawierającego nanocząstki srebra.
– Wynalazek pozwala w szczególności na usuwanie w trakcie procesu druku ewentualnych lokalnych przewężeń w nanoszonych liniach, przez co zwiększona zostaje ich przewodność elektryczna oraz wytrzymałość prądowa i mechaniczna – podkreśla XTPL w komunikacie.
Zgłoszenie patentowe XTPL nosi tytuł "Method for removing bottlenecks, a informację o warunkowym przyznaniu patentu spółka otrzymała 11 maja.
Ostatecznym wymogiem formalnym uzyskania patentu jest wniesienie opłaty za jego wydanie do 20 lipca 2022 roku.
Procedura zgłoszeniowa dla tego patentu została rozpoczęta 6 czerwca 2018 roku. Jest to również data, od której obowiązuje ochrona wynalazku. Spółka w swoim portfolio posiada aktualnie 24 zgłoszenia patentowe i łącznie 2 przyznane patenty.
– Uzyskana ochrona patentowa wpłynie na podniesienie wartości potencjalnej komercjalizacji technologii spółki w zakresie rozwiązań technologicznych dla rynku elektroniki nowej generacji. Opisane zdarzenie stanowi potwierdzenie realizacji przez spółkę strategii budowania rodziny patentowej dla rozwijanej technologii oraz produktów, co stanowić będzie element budujący wiarygodność XTPL wobec potencjalnych klientów przemysłowych – czytamy dalej w komunikacie.
