Intel zamawia nowe maszyny EUV
Zamówione od ASML maszyny do produkcji układów scalonych w litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) mają rozpocząć pracę w fabrykach Intela w 2025 roku.
Intel ogłosił zakup najnowszego systemu ASML – TWINSCAN EXE:5200, który umożliwi produkcję ponad 200 wafli na godzinę. Jest to kontynuacja współpracy firm dotycząca sprzętu EUV (litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie), bowiem w 2018 roku Intel kupił poprzednika, czyli TWINSCAN EXE:5000.
– Wizja firmy Intel i wczesne zaangażowanie w technologię High-NA EUV ASML są dowodem nieustannego dążenia do realizacji prawa Moore'a. W porównaniu z obecnymi systemami EUV, nasza innowacyjna rozszerzona mapa drogowa EUV zapewnia ciągłe ulepszenia litograficzne przy zmniejszeniu złożoności, kosztów, czasu cyklu i energii, których przemysł chipowy potrzebuje, aby zapewnić przystępne skalowanie w ciągu następnej dekady – komentuje prezes i dyrektor techniczny ASML Martin van den Skraj.
ASML podkreśla, że maszyny TWINSCAN EXE:5000 i EXE:5200 z technologią High-NA (High Numerical Aperture), zapewnią znaczny wzrost rozdzielności dzięki zwiększeniu apertury z 0,33 do 0,55. O tym, jak bardzo możemy zejść w dół z rozmiarem produkowanych chipów decydują właśnie apertura numeryczna systemu w połączeniu z zastosowaną długością fali – informuje firma.
ASML opublikował także w tym tygodniu podsumowanie 2021 roku: całkowita sprzedaż netto w tym okresie wyniosła 18,6 mld EUR, w tym 6,3 mld EUR z 42 systemów EUV, natomiast zysk netto: 5,88 mld EUR. Więcej na ten temat można przeczytać tutaj.
