Pożar w zakładzie ASML może wpłynąć na dostawy komponentów optycznych EUV

Według wstępnych informacji otrzymanych przez TrendForce pożar dotknął około 200 m kw. obiektu o powierzchni 32 000 m kw. Berlińska fabryka produkuje głównie elementy optyczne stosowane w systemach litograficznych. Obecnie większość komponentów produkowanych w zakładzie przeznaczona jest na potrzeby maszyn EUV, podczas gdy lwia część popytu na te produkty pochodzi z sektora foundry, czyli kontraktowych producentów chipów. Jeśli pożar opóźni dostawę komponentów, nie można wykluczyć, że ASML nada priorytet alokacji produkcji na potrzeby foudry. Firmy foundry korzystają z EUV (litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie) przede wszystkim w zaawansowanych procesach produkcyjnych (7 nm i poniżej). Obecnie jedynymi firmami na świecie wykorzystującymi ten sprzęt do produkcji są TSMC i Samsung (TSMC: 7 nm, 5 nm, 3 nm; Samsung EUV 7 nm, 5 nm i 4 nm – linia w Hwaseong w Korei Południowej i 3 nm GAA – Gate-All-Around). Jednak ze względu na takie czynniki, jak globalny niedobór zdolności produkcyjnych branży foundry oraz inwestycje w produkcję, terminy dostaw sprzętu półprzewodnikowego również się wydłużają. Natomiast jeśli chodzi o produkcję pamięci, DRAM, Samsung i SK Hynix używają EUV w swoich procesach 1Znm i 1alpha nm, podczas gdy amerykański producent Micron ma wprowadzić EUV do procesu 1gamma nm w 2024 roku. Według aktualnych informacji TrendForce, czas realizacji ASML na sprzęt EUV wynosi około 12 do 18 miesięcy. ASML może zatem poczekać na wymianę komponentów utraconych w pożarze w czasie niezbędnym do zmontowania sprzętu. Analitycy oceniają, że ASML ma też możliwość pozyskania niezbędnych komponentów z innych kampusów fabrycznych. Ponadto obecny czas realizacji sprzętu EUV jest dość długi, dlatego dopiero się okaże, jaki będzie rzeczywisty wpływ pożaru na podaż sprzętu EUV.