reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
© Samsung Przemysł elektroniczny | 18 października 2018

Samsung rozpoczął produkcję w 7 nm

Samsung Electronics ogłosił rozpoczęcie produkcji układów scalonych z zastosowaniem litografii EUV (w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie) w technologii 7 nm LPP (Low Power Plus). Firma zapowiada wdrażanie coraz to nowocześniejszych procesów aż po 3 nm.
Produkcja rozpoczęła się w zakładzie S3 w koreańskim Hwaseong. Samsung spodziewa się, że do 2020 roku uruchomi linię przystosowaną do masowej produkcji następnych generacji chipów w litografii EUV. - Wdrożenie produkcji w EUV oznacza, że Samsung przeprowadził cichą rewolucję w branży półprzewodników – powiedział Charlie Bae, wiceprezes ds. sprzedaży i marketingu biznesu foundry Samsung Electronics.

Litografia EUV korzysta ze źródła światła o długości fali wynoszącej 13,5 nm, podczas gdy obecne techniki litograficzne wykorzystują światło 193 nm. Jak podkreśla Samsung, zastosowanie technologii 7LPP przekłada się na znaczne zmniejszenie złożoności procesu produkcyjnego oraz na 40% zwiększenie sprawności wykorzystania powierzchni układów przy 20% wzrośnie wydajności i 50% redukcji poboru mocy.

- Dzięki technologii EUV 7LPP wdrożonej przez Samsunga będzie można przyspieszyć rozwój wielu rewolucyjnych produktów z takich obszarów, jak 5G, sztuczna inteligencja czy internet rzeczy – Podkreśla Samsung w komunikacie i prezentuje infografikę, która pokazuje, w jaki sposób litografia EUV przyczyni się do rozwoju technologii półprzewodnikowych.





© Samsung
reklama
reklama
reklama
reklama
Załaduj więcej newsów
November 14 2018 11:24 V11.8.1-2