Mycronic z nowym zamówieniem na system fotolitograficzny SLX
Szwedzka firma Mycronic otrzymała zamówienie na laserowy system SLX do produkcji masek fotolitograficznych wykorzystywanych w przemyśle półprzewodnikowym. Szacowana wartość kontraktu to 4-5 mln USD. Dostawę urządzenia do nowego klienta w Azji zaplanowano na pierwszy kwartał 2027 roku. System ma wspierać rozwój zaawansowanych technologii pakowania układów scalonych.
Mycronic w opublikowanym komunikacie prasowym poinformował, że odbiorca zdecydował się na podstawowy wariant urządzenia SLX, który umożliwi mu rozszerzenie działalności na bardziej zaawansowane zastosowania w sektorze półprzewodników. Firma nie ujawniła nazwy klienta ani kraju, do którego trafi zamówiony system.
Urządzenia SLX służą do laserowego zapisywania wzorów na maskach fotolitograficznych. Maski te stanowią jeden z podstawowych elementów procesu wytwarzania półprzewodników. Zawierają precyzyjnie odwzorowane struktury, które dzięki fotolitografii przenoszone są na odpowiednio przygotowane podłoże. Proces ten pozwala tworzyć kolejne warstwy układów scalonych.
Technologia SLX bazuje na rozwiązaniach stosowanych przez Mycronic w urządzeniach przeznaczonych do produkcji masek dla wyświetlaczy. Według producenta nowa generacja systemów charakteryzuje się wysoką wydajnością i ograniczonym zużyciem energii.
Zamówienie związane jest ze wzrostem znaczenia zaawansowanego pakowania półprzewodników. Technologie te umożliwiają integrację wielu układów lub struktur półprzewodnikowych w jednym module, co pozwala zwiększać funkcjonalność i wydajność systemów elektronicznych bez konieczności dalszej miniaturyzacji wszystkich elementów układu.
“Cieszymy się, że klient zdecydował się na podstawowy system SLX, aby rozszerzyć działalność na bardziej zaawansowane zastosowania, przede wszystkim w obszarze zaawansowanego pakowania”, powiedział Mikael Wahlsten, wiceprezes odpowiedzialny za dział Pattern Generators w Mycronic.
Producent wskazuje, że popyt na systemy SLX wynika zarówno z rosnącego zapotrzebowania na maski fotolitograficzne, jak i konieczności modernizacji starszego wyposażenia produkcyjnego.
