Fujifilm zainwestuje 83 mln USD w półprzewodniki w Indiach
Fujifilm planuje budowę nowego zakładu produkcji materiałów dla przemysłu półprzewodnikowego w Indiach. Japoński koncern zamierza zainwestować łącznie około 83 mln dolarów. Inwestycja zostanie zrealizowana w dwóch etapach od października 2026 roku, a rozpoczęcie produkcji komercyjnej zaplanowano na rok finansowy 2028.
Japońska firma technologiczna Fujifilm przygotowuje się do uruchomienia nowego zakładu produkującego materiały wykorzystywane w przemyśle półprzewodnikowym w Indiach. Jak informuje indyjska agencja prasowa PTI, wartość planowanej inwestycji wyniesie około 83 mln dolarów.
Projekt zostanie zrealizowany w dwóch etapach, które rozpoczną się w październiku 2026 roku. Produkcja komercyjna ma ruszyć w roku finansowym 2028.
W pierwszym etapie Fujifilm uruchomi produkcję chemikaliów wykorzystywanych w procesach front-end podczas wytwarzania półprzewodników. Drugi etap obejmie produkcję materiałów do obróbki powierzchni półprzewodników oraz chemikaliów o wysokiej czystości. Nowy zakład ma również wesprzeć realizację indyjskiej strategii rozwoju krajowego przemysłu półprzewodnikowego.
„Fujifilm będzie ściśle współpracować zgodnie z wizją India Semiconductor Mission i zamierza skorzystać ze wsparcia indyjskiego rządu w ramach programu ISM 2.0, zatwierdzonego w lipcu 2026 roku” – przekazała firma Fuji, cytowana przez PTI.
Dzięki tej inwestycji Fujifilm zwiększy swoje moce produkcyjne w zakresie materiałów wykorzystywanych na różnych etapach produkcji półprzewodników oraz umocni swoją pozycję w rozwijającym się indyjskim ekosystemie półprzewodnikowym.
