Chiny uruchomiły produkcję własnych maszyn DUV
Chiny rozpoczęły seryjną produkcję maszyn litograficznych typu immersion DUV (Deep Ultraviolet), wykorzystywanych przy wytwarzaniu zaawansowanych półprzewodników - podała agencja Reutera. Pierwsze urządzenia mają jeszcze w tym roku trafić do największych chińskich producentów chipów. Rozwój technologii ma zmniejszyć zależność Pekinu od zagranicznych dostawców, przede wszystkim holenderskiego ASML.
Za projekt odpowiada państwowa spółka Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Przypomnijmy, że maszyny immersion DUV wykorzystują warstwę wody pomiędzy układem optycznym a krzemowym waflem. Dzięki temu przy pordukcji tworzą się mniejsze struktury niż w starszych systemach litografii suchej. Technologia znajduje zastosowanie przy produkcji szerokiej gamy układów scalonych, a dzięki wielokrotnemu naświetlaniu może być używana także do wytwarzania bardziej zaawansowanych chipów.
Rozpoczęcie produkcji maszyn typu DUV to istotny etap realizowanej przez Pekin strategii budowy samowystarczalności technologicznej. Rozwój krajowego przemysłu półprzewodników jest jednym z priorytetów władz Chin, zwłaszcza po wprowadzeniu przez Stany Zjednoczone i Holandię ograniczeń w eksporcie zaawansowanych urządzeń do produkcji chipów.
Nowe chińskie urządzenia mają jeszcze wymagać dalszych testów i na ten moment nie dorównują rozwiązaniom oferowanym przez holenderską firmę ASML. Holendrzy od lat dominują na rynku litografii DUV i EUV (Extreme Ultraviolet -to technologia litografii w skrajnym ultrafiolecie). Rozpoczęcie produkcji oznacza jednak, że chińscy producenci półprzewodników mogą w przyszłości uzyskać alternatywne źródło dostaw sprzętu.
Jak podała agencja Reutera, pierwsze maszyny mają zostać dostarczone jeszcze w tym roku do największych chińskich producentów układów scalonych, w tym SMIC, Hua Hong Semiconductor oraz producenta pamięci CXMT. Plan zakłada wyprodukowanie około pięciu urządzeń w 2026 roku i około dwudziestu w 2027 roku.
Według wcześniejszych informacji chińskie ośrodki badawcze pracują także nad technologią EUV. Prototyp takiego systemu miał powstać pod koniec ubiegłego roku, jednak jego komercjalizacja pozostaje odległą perspektywą.
