ASML zapowiada przełom w produkcji chipów
Holenderski producent maszyn litograficznych ASML zapowiada przełom w technologii EUV - podała agencja Reutera. Firma zapowiada, że może zwiększyć moc źródła światła w swoich urządzeniach z 600 do 1000 watów. Ta zmiana pozwoli na podwojenie produkcji chipów do końca dekady.
ASML jest jedyną firmą produkującą komercyjne urządzenia litograficzne EUV, nazywane czasem „najważniejszymi maszynami na świecie”, wykorzystywane przez producentów chipów, takich jak TSMC i Intel, do produkcji zaawansowanych chipów.
Obecnie źródła światła w maszynach EUV osiągają moc 600 watów. ASML poinformował, że opracował rozwiązanie pozwalające ją zwiększyć. Wyższa moc oznacza krótszy czas naświetlania wafla i większą liczbę układów produkowanych w ciągu godziny.
Według Michaela Purvisa, głównego technologa ASML nowy system może utrzymać moc EUV na poziomie 1000 watów przy takich samych wymaganiach operacyjnych, jakie stosują klienci.
„Nie jest to żadna sztuczka, gdzie pokazujemy przez bardzo krótki czas, że to działa. To system, który może wytworzyć 1000 watów przy wszystkich tych samych wymaganiach, jakie można spotkać u klienta” – powiedział Purvis w wywiadzie dla agencji Reuters w zakładzie ASML w Kalifornii.
Zwiększenie mocy z 600 do 1000 watów pozwoli producentom chipów skrócić czas naświetlania płytek krzemowych, skutecznie zwiększając liczbę chipów produkowanych na godzinę i obniżając koszty jednostkowe. Spółka szacuje, że do 2030 roku pojedyncza maszyna będzie w stanie przetwarzać około 330 wafli krzemowych na godzinę. Dziś jest to około 220 wafli. W zależności od wielkości układu, na jednym waflu mieści się od kilkudziesięciu do kilku tysięcy chipów.
Maszyny EUV firmy ASML działają poprzez projekcję światła o długości fali 13,5 nanometra na płytki krzemowe. Światło jest generowane poprzez przegrzanie kropel cyny do postaci plazmy za pomocą laserów dwutlenku węgla. Według agencji Reutera nowa technika podwaja liczbę kropel cyny do około 100 000 na sekundę i kształtuje je w plazmę za pomocą dwóch impulsów laserowych zamiast jednego.
Celem jest obniżenie kosztu produkcji pojedynczego układu i utrzymanie przewagi technologicznej nad rosnącą konkurencją z USA i Chin. Według ASML osiągnięcie poziomu 1000 watów otwiera drogę do dalszych wzrostów. Firma wskazuje, że widzi możliwość dojścia do 1500 watów, a w dłuższej perspektywie nawet do 2000 watów.
Dla branży półprzewodników oznacza to szansę na dalsze zwiększanie wydajności bez radykalnej zmiany architektury samych maszyn. Dla ASML – utrzymanie pozycji technologicznego lidera w jednym z najbardziej strategicznych segmentów globalnej gospodarki.
