Fujifilm ukończyło budowę fabryki materiałów półprzewodnikowych

Dzięki tej inwestycji firma wzmocniła swoje możliwości w zakresie oceny wydajności i jakości opracowywanych produktów, przyspieszając rozwój nowych materiałów dla zaawansowanych półprzewodników nowej generacji i zapewniając stabilne dostawy produktów wysokiej jakości.

Firma Fujifilm zamierza jeszcze bardziej przyspieszyć rozwój działalności w zakresie materiałów półprzewodnikowych. Firma chce sprostać szybko rosnącemu zapotrzebowaniu na półprzewodniki, takie jak te wykorzystywane w centrach danych AI.

„Nowy budynek w fabryce w Shizuoka jest wyposażony w najnowocześniejszy sprzęt do oceny w pomieszczeniu o wysokim stopniu czystości, co poprawia funkcje oceny jakości w zakresie rozwoju i produkcji. Wprowadzono technologię rozpoznawania obrazów opartą na sztucznej inteligencji do kontroli drobnych cząstek zawartych w materiałach półprzewodnikowych, co poprawia dokładność analizy i pozwala na stworzenie zaawansowanego systemu kontroli jakości wykorzystującego sztuczną inteligencję” - poinformowała firma Fujifilm.

Dział promujący transformację cyfrową (DX) również znajduje się w nowym obiekcie, aby wspierać rozwój technologii cyfrowych, takich jak sztuczna inteligencja w procesach produkcyjnych, poprawiając w ten sposób jakość produktów i zapewniając stabilne dostawy, jak podano w komunikacie prasowym.

Fabryka w Shizuoka współpracuje z globalnymi ośrodkami badawczo-rozwojowymi i produkcyjnymi, aby wspierać klientów w rozwoju najnowocześniejszych technologii procesowych, nie tylko na rynku japońskim, ale także na całym świecie.