Fujifilm zainwestuje więcej w półprzewodniki
Fujifilm Corporation planuje zainwestować 20 miliardów jenów (125 milionów euro) w swoją działalność związaną z materiałami półprzewodnikowymi. Inwestycja wzmocni zakłady firmy zajmujące się rozwojem, produkcją i oceną jakości zaawansowanych materiałów półprzewodnikowych w Shizuoka i Oita w Japonii.
Ze względu na rozwój szybkiej technologii komunikacyjnej 5G i 6G, rozwój pojazdów autonomicznych, sztucznej inteligencji i technologii „metaverse”, popyt na półprzewodniki ciągle rośnie. W związku z tym zapewnienie stabilnych dostaw materiałów półprzewodnikowych o wyższej jakości i wydajności dla procesu produkcji półprzewodników staje się coraz bardziej pożądane.
W związku z tym Fujifilm coraz mocniej angażuje się w rozwiązywanie problemów swoich klientów poprzez dostarczanie kompleksowych rozwiązań, które wykorzystują globalną strukturę dostaw i zaawansowane możliwości badawczo-rozwojowe. Tym samym firma zwiększa swoje moce produkcyjne. Dzieje się tak dzięki nowym inwestycjom w zakłady na całym świecie. Firma dokonuje zdecydowanych inwestycji kapitałowych w zakłady produkcyjne na całym świecie i zwiększa moce produkcyjne materiałów półprzewodnikowych.
Fujifilm Electronic Materials Co., Ltd., główna firma, która prowadzi działalność Fujifilm w zakresie materiałów półprzewodnikowych, wzmocni i rozszerzy swoje zakłady w Shizuoka i Oita. Fuji chce poprawić rozwój, produkcję i zapewnić jakościowe materiały półprzewodnikowe. Firma podjęła decyzję o zainwestowaniu w dwa zakłady w Japonii.
W zakładzie w Shizuoka Fujifilm Electronic Materials zainwestuje około 13 miliardów jenów (81,3 milionów euro) w budowę nowego budynku w celu wzmocnienia funkcji rozwoju, produkcji i oceny jakości zaawansowanych fotorezystów, w tym fotorezystów do litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV) i Wave Control Mosaic. Nowy budynek będzie wyposażony w pomieszczenie czyste i sprzęt kontrolny. Dzięki nowemu obiektowi firma jeszcze bardziej przyspieszy rozwój, zwiększy moce produkcyjne i usprawni systemy oceny jakości. Zakład ma rozpocząć działalność jesienią 2025 roku.
W zakładzie w Oita Fujifilm Electronic Materials zainwestuje około 7 miliardów jenów (43,8 milionów euro) w budowę nowego budynku, nabywając grunt przylegający do istniejącego zakładu. Wprowadzi dodatkowy sprzęt produkcyjny i urządzenia kontrolne do czyszczenia post-CMP, które są kluczowymi materiałami w procesie produkcji półprzewodników. Pozwoli to zwiększyć moce produkcyjne w zakładzie w Oita o około 40%. Zakład ma rozpocząć działalność wiosną 2026 roku.
