reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
© DNP
Przemysł elektroniczny |

Japonia z nowym zakładem litografii EUV

Japoński Narodowy Instytut Zaawansowanych Nauk Przemysłowych i Technologii (AIST) planuje utworzenie krajowej bazy badawczo-rozwojowej dla sprzętu do produkcji chipów i materiałów półprzewodnikowych. Instytut ma współpracować z Intelem - podał Japan Times.

AIST, który jest powiązany z krajowym ministerstwem przemysłu, będzie pierwszym japońskim instytutem badawczym, który wprowadzi sprzęt do litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV), według Japan Times i Jiji Press.

Nowa jednostka AIST ma powstać w ciągu trzech do pięciu lat. Zakład ma być wyposażony w system, który za odpowiednią opłatą będzie umożliwiał korporacjom przeprowadzanie eksperymentów z wykorzystaniem sprzętu do litografii EUV.

Oczekuje się, że instytut będzie współpracował z amerykańskim gigantem produkującym chipy, firmą Intel, w celu zwiększenia konkurencyjności japońskiego przemysłu półprzewodników. Intel ma zapewnić specjalistyczną wiedzę na temat produkcji chipów przy użyciu technologii litografii EUV.

Sprzęt do litografii EUV odgrywa kluczową rolę w zmniejszaniu szerokości linii obwodów chipów. Dzięki niezwykle krótkim falom o długości około 13,5 nanometra, litografia EUV pozwala na dokładniejsze wytrawianie mniejszych elementów na chipach. Proces ten nie jest możliwy w przypadku konwencjonalnej litografii optycznej.

Istotną częścią planu wybudowania nowego centrum AIST jest również przeszkolenie personelu pracującego na co dzień przy produkcji półprzewodników. Pracownicy mieliby podróżować pomiędzy instytutami badawczymi w innych krajach i nabierać niezbędnego doświadczenia.
 


reklama
reklama
Załaduj więcej newsów
© 2024 Evertiq AB September 17 2024 11:32 V23.1.9-2
reklama
reklama