Japonia z nowym zakładem litografii EUV
Japoński Narodowy Instytut Zaawansowanych Nauk Przemysłowych i Technologii (AIST) planuje utworzenie krajowej bazy badawczo-rozwojowej dla sprzętu do produkcji chipów i materiałów półprzewodnikowych. Instytut ma współpracować z Intelem - podał Japan Times.
AIST, który jest powiązany z krajowym ministerstwem przemysłu, będzie pierwszym japońskim instytutem badawczym, który wprowadzi sprzęt do litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV), według Japan Times i Jiji Press.
Nowa jednostka AIST ma powstać w ciągu trzech do pięciu lat. Zakład ma być wyposażony w system, który za odpowiednią opłatą będzie umożliwiał korporacjom przeprowadzanie eksperymentów z wykorzystaniem sprzętu do litografii EUV.
Oczekuje się, że instytut będzie współpracował z amerykańskim gigantem produkującym chipy, firmą Intel, w celu zwiększenia konkurencyjności japońskiego przemysłu półprzewodników. Intel ma zapewnić specjalistyczną wiedzę na temat produkcji chipów przy użyciu technologii litografii EUV.
Sprzęt do litografii EUV odgrywa kluczową rolę w zmniejszaniu szerokości linii obwodów chipów. Dzięki niezwykle krótkim falom o długości około 13,5 nanometra, litografia EUV pozwala na dokładniejsze wytrawianie mniejszych elementów na chipach. Proces ten nie jest możliwy w przypadku konwencjonalnej litografii optycznej.
Istotną częścią planu wybudowania nowego centrum AIST jest również przeszkolenie personelu pracującego na co dzień przy produkcji półprzewodników. Pracownicy mieliby podróżować pomiędzy instytutami badawczymi w innych krajach i nabierać niezbędnego doświadczenia.
