reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
© Huawei
Przemysł elektroniczny |

Huawei opracował technologię pozwalającą ominąć litografię EUV?

Według ostatnich doniesień Huawei Technologies osiągnęło przełom, który umożliwi projektowanie zaawansowanych chipów bez konieczności stosowania maszyn do ekstremalnej litografii ultrafioletowej (EUV).

Według Bloomberga, chińska firma Huawei zgłosiła patenty na technikę samopoziomującego się poczwórnego wzorcowania (SAQP). Umożliwia to wzorowanie tranzystorów na płytkach krzemowych, co zwykle odbywa się za pomocą techniki EUV.

Huawei miał współpracować z producentem maszyn do wytwarzania mikroprocesorów chińskim SiCarrier. W wyniku tej współpracy złożono patent, który wykorzystuje litografię w głębokim ultrafiolecie (DUV). W połączeniu  z techniką SAQP mogą osiągnąć benchmarki porównywalne z chipami 5 nanometrów. 

Jeśli te spekulacje okażą się prawdziwe, będzie to potężny wstrząs dla chińskiego przemysłu chipów. ASML, wiodąca na świecie firma EUV, ma zakaz sprzedaży swojego sprzętu chińskim firmom przez amerykańskie organy kontroli eksportu.

Zależność Chin od ASML była widoczna w grudniu, kiedy import sprzętu litograficznego z Holandii wzrósł o 1050% do 1,1 mld USD. Wynikało to ze wzmożonego zapotrzebowania lokalnych firm, które spieszyły się z zakupem sprzętu przed nadchodzącymi restrykcjami.


reklama
Załaduj więcej newsów
April 11 2024 07:39 V22.4.25-2
reklama
reklama