reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
© tugores34_dreamstime.com Przemys艂 elektroniczny | 18 wrze艣nia 2017

ASML podwoi produkcj臋 sprz臋tu EUV

ASML poinformowa艂o, 偶e w 2018 roku firma podwoi produkcj臋 urz膮dze艅 do wytwarzania uk艂ad贸w scalonych w litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV).
Liczba wytwarzanych przez ASML system贸w do produkcji chip贸w w EUV wyniesie w 2018 roku 24 sztuki, w por贸wnaniu do 12 sztuk w 2017 roku. Jak przewiduje ASML, w 2019 roku ta liczba wyniesie ju偶 40 i b臋dzie to rok, gdy bran偶a p贸艂przewodnik贸w na dobre wkroczy w er臋 technologii EUV.

W drugim kwartale 2017 roku ASML otrzyma艂o 8 zam贸wie艅 na systemy EUV, w zwi膮zku z tym aktualna liczba zam贸wie艅 na systemy EUV wynosi 27, a ich warto艣膰 szacowana jest na 2,8 mld EUR. Zapotrzebowanie na te urz膮dzenia mocno wp艂ynie na wzrost przychod贸w sp贸艂ki, kt贸ry w 2017 roku mo偶e wynie艣膰 nawet 25%.

Wed艂ug nieoficjalnych informacji, klientami ASML na systemy EUV s膮 takie firmy, jak: GlobalFoundries, Intel, Samsung, SK Hynix i TSMC.

Samsung og艂osi艂, 偶e pierwsza generacja chip贸w 7 nm, przy produkcji kt贸rej b臋dzie zastosowana technologia EUV, ma zosta膰 wypuszczona na rynek w 2018 roku. Z kolei TSMC i GlobalFoundries uruchomi膮 tak膮 produkcj臋 w roku 2019.

殴r贸d艂o: digitimes.com
reklama
reklama
reklama
reklama
Za艂aduj wi臋cej news贸w
December 13 2018 13:08 V11.10.14-1