Nowa technologia dla elastycznych wyświetlaczy

Technologia o nazwie ‘dual-tone photoresist’ pozwala na zaoszczędzenie części etapów procesu fotolitografii. Eliminuje ona kosztowny proces maskowania na elastycznych podłożach i związane z nim problemy. Metoda polega na zastosowaniu zmultifikowanego światła o różnej długości do jednoczesnego utworzenia pożądanych wzorów na kilku warstwach fotorezystancyjnych, zamiast kilkukrotnego powtarzania tego samego procesu, jak to dzieje się obecnie. Nowatorska technologia nie tylko oszczędza koszty, lecz dodatkowo umożliwia szereg nowych aplikacji, takich jak przykładowo rozkładane anteny, używane w statkach kosmicznych. Niemniej jednak nowa technologia wspiera przede wszystkim rozwój technologii elastycznych wyświetlaczy, które będą mogły być produkowane po niższych kosztach.