reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
reklama
© firaxissmooke-dreamstime.com Przemysł elektroniczny | 20 lipca 2012

ITME: 76,4 mln PLN na PATENT PLUS

ITME realizuje nowy grafenowy projekt, wsparty ze środków Narodowego Centrum Badań i Rozwoju, który pomoże zrewolucjonizować elektronikę.

Temat projektu: „Sposób otrzymywania drukowanych warstw grafenowych i pasta zawierająca nanopłatki grafenowe”  Czas realizacji projektu: 02.04.2012 - 30.09.2015 r. Całkowity koszt projektu:  76 473 PLN Dofinansowanie NCBiR:  68 700 PLN Projekt finansowany jest ze środków Narodowego Centrum Badań i Rozwoju w ramach programu „PATENT PLUS – wsparcie patentowania wynalazków”. W wyniku prac badawczo-rozwojowych prowadzonych przez naukowców Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych zostały opracowane nowatorskie technologie związane z pastami nowej generacji do zastosowań w elektronice na bazie płatków grafenowych oraz technologia sitodruku warstw grafenowych. Opracowane pasty są przeznaczone do elektroniki drukowanej i elastycznej. Opracowane pasty grafenowe zawierają płatki grafenu o wymiarach od 2 do 25 μm. Skład past i sposób wytwarzania warstw zostały objęte ochroną patentową (zgłoszenie patentowe nr P.396373). Opracowany sposób otrzymywania warstw grafenowych na podłożu ma szereg zalet. Po pierwsze, dzięki możliwej niskiej temperaturze wygrzewania (100°C – 400ºC), nadaje się on do otrzymywania warstw grafenowych na powierzchniach podłoży wrażliwych na temperaturę, jak na przykład: aluminium, tworzywa sztuczne (folie), tkaniny, papier. Po drugie, dobierając skład pasty i/lub temperaturę wygrzewania, można otrzymać ścieżki/warstwy o żądanych właściwościach elektrycznych, w szczególności warstwy rezystywne lub warstwy przewodzące. Opracowana technologia wytwarzania tych warstw jest stosunkowo szybka i tania. Wykorzystanie sitodruku jako metody nanoszenia pasty skutkuje z jednej strony możliwością szybkiego pokrywania dużych powierzchni (co jest wymagane w przypadku zastosowań w takich dziedzinach, jak optoelektronika, fotowoltaika, czujniki elektrochemiczne, zaś z drugiej strony wysoką selektywnością pokrywania grafenem (można nadrukować praktycznie dowolnie skomplikowany układ ścieżek). Możliwe jest wytwarzanie warstw rezystywnych, jak i warstw przewodzących, a także warstw o bardzo precyzyjnym kształcie wzoru na powierzchni podłoża. Sitodruk – jako technika tania i powszechnie dostępna – może być zastosowany bez nadmiernych nakładów nawet w małych i średnich przedsiębiorstwach.
reklama
Załaduj więcej newsów
August 06 2019 20:55 V14.1.1-1