System SB251 od Vistec w warszawskim ITME

System będzie wykorzystywany do badań i produkcji różnego rodzaju mikro-optycznych i dyfrakcyjnych komponentów, nowych materiałów, a także masek do litografii optycznej. Instytut badawczy ITME zajmuje się badaniami, rozwojem i produkcją materiałów, urządzeń i komponentów do stosowania w elektronice, mikromechanice i optoelektronice. - Dzięki Vistec SB251 nasz długoletni partner ITME otrzymuje zaawansowany system litografii. Wraz z wysoką elastycznością i niezawodnością, SB251 jest idealnie dostosowane do zróżnicowanych potrzeb jakie stoją obecnie i będą stały w przyszłości przed ITME - powiedział Wolfgang Dorl, dyrektor generalny Vistec Electron Beam. - Jesteśmy bardzo zadowoleni, że ITME złożyło zamówienie w Vistec, co oznacza kontynuację naszej owocnej współpracy, która rozpoczęła się ponad 20 lat temu.